Kína 1064 nm-es kör alakú, kalap alakú nyalábformáló DOE | Φ50µm lapos tetejű pont infravörös (IR) lézerekhez, gyártás és gyár

1064 nm-es kör alakú, kalap alakú nyalábformáló DOE | Φ50µm lapos tetejű pont infravörös (IR) lézerekhez Kiemelt kép

1064 nm-es kör alakú, kalap alakú nyalábformáló DOE | Φ50µm lapos tetejű sugárpont infravörös (IR) lézerekhez

A nyalábformáló DOE-k lapos tetejű nyalábokat hoznak létre, amelyeket egyenletes intenzitás, meredek átmenetek a határokon és a végfelhasználó által meghatározott formák jellemeznek. Ennek a sokoldalúságnak köszönhetően a ma kapható legszélesebb körben használt diffraktív optikai elemek közé tartoznak.

Kategória	Paraméter	Specifikáció
Rendszerparaméterek	Tervezési hullámhossz [nm]	1064
	Sugárnyalat minősége (M²)	≤ 1,2
	Bemeneti nyalábméret (e⁻²) [mm]	8
	Fókuszmodul fókusztávolsága [mm]	75
DOE-paraméterek	DOE átlátszó nyílás [mm]	Φ20
	DOE mechanikai külső átmérő [mm]	Φ25,4 × 2
	Rendelés	16
Kimeneti paraméterek	Alakú gerenda alakja	Kör alakú
	Alakú nyalábméret [µm]	Φ50
	Alakú nyaláb egyenletessége (RMS)	> 90%
	Teljes diffrakciós hatásfok (e⁻²)	> 90%

Küldjön nekünk e-mailt

Termék részletei

Termékcímkék

Egy kiválasztott síkon (amely általában a végtelenben vagy a lencse fókuszsíkjában található) interferenciahatások révén egy adott fényintenzitás-eloszlás jön létre. Ezt a diffrakciós rendek és a tárgytávolság módosításával teszik lehetővé. Az alapul szolgáló mechanizmus a DOE mikrostrukturált felületével kezdődik, amely megváltoztatja a lézersugár áteresztett fázisát, ezáltal fázismodulációt alkalmaz a beeső hullámfronton, és több rendre szórja azt.

Φ25,4 mm-es (1 hüvelykes) külső átmérőjével és Φ12 mm-es átlátszó nyílásával ez a nagy teljesítményű DOE úgy lett kialakítva, hogy módosítás nélkül illeszkedjen a szabványos optomechanikus állványokhoz. 532 nm-es zöld lézerekkel használva a nyers Gauss-sugarat egy Φ60 µm-es, lapos tetejű körré alakítja, amelyet éles szélek, egyenletes besugárzás és minimális intenzitástüskék jellemeznek.

A 16-szintű felületi szerkezet >90%-os teljes diffrakciós hatásfokot és >90%-os RMS egyenletességet biztosít, így kiválóan alkalmas vékonyrétegek precíziós feldolgozására, mikromegmunkálásra és orvostechnikai eszközök gyártására.